【新品上市】曝光机EXP-2900
| EXP-2900 感材に合わせて平行光/散乱光の光源を選択できる両面同時露光モデル |
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使用用途により、光源を選択ください。 ●パターン用：5kWショートアークランプ平行光（精度重視） ●液状レジスト用：7kW散乱光（タクト重視） |
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| 露光枠の剛性向上や、温湿度コントローラー搭載などにより、従来機（EXP-2010B）と比べ、ワークとマスクの位置決め精度が大幅に向上しました。 | |
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| 段取り時間短縮のために、独自の密着方式によるスペーサレス露光、焼枠ガラスの軽量化、段取り情報のレシピ化など、最新の機構を採用しています。 | |
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| カメラ移動機構（反射光照明）や、ダブルラインレイアウト対応（平行光の場合）などのオプションがあります。 | |
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| 標準搭載のHEPAフィルターとオプションの自動マスク＆ステージクリーニング機構により、異物による製品不良を低減します。 |