【新品上市】半导体曝光装置PPS-8200/8300

 

标题01
适合各种应用

兼容WL-CSP、IGBT、CIS等光刻6/8/12英寸。

内容1
标题01
  • 宽带曝光(自动切换与配方ghi线、gh线、i线联动)
  • 配备可变NA功能(0.16~0.1之间可变)
  • 标线设计格式最多 8 个区域
  • 光学系统免受周围环境中的抗蚀剂脱气和化学物质的影响

 

产品规格

规格

模型 PPS-8200/8300
晶圆尺寸 6/8/12英寸
解决 2.0 µmL/S(2.0 µm 抗蚀剂厚度)
NA(数值孔径) 0.16、0.1 变量
减速比 1:1
场地大小 52毫米×33毫米
曝光波长 ghi-Line gh-line i-line(链接到配方)
标线尺寸 6英寸
叠加精度 ≤0.5微米(|平均|+3σ)
设备尺寸/重量 (宽)2,260 x (深)3,460 x (高)2,500 毫米 / 5,500 公斤
主要选项 背面对准系统
晶圆周边曝光系统
晶圆周边非曝光系统
薄晶圆传送系统
GEM 通信兼容
内联兼容